CMOS snímač se zpětným osvětlením, zkráceně BSI CMOS (z ang. BackSide-Illumination). Jde o technologii upravující stávající způsob výroby fotocitlivých CMOS čipů. Ve standardních CMOS čipech je totiž fotocitlivá vrstva uložena až za tranzistory a kovovými obvody. To způsobuje, že na fotocitlivou vrstvu dopadá méně světla, což zapříčinilo jejich vytlačení CCD čipy.

PropertyValue
prop-cs:wikiPageUsesTemplate
dbpedia-owl:abstract
  • CMOS snímač se zpětným osvětlením, zkráceně BSI CMOS (z ang. BackSide-Illumination). Jde o technologii upravující stávající způsob výroby fotocitlivých CMOS čipů. Ve standardních CMOS čipech je totiž fotocitlivá vrstva uložena až za tranzistory a kovovými obvody. To způsobuje, že na fotocitlivou vrstvu dopadá méně světla, což zapříčinilo jejich vytlačení CCD čipy.
dbpedia-owl:thumbnail
dbpedia-owl:wikiPageID
  • 825822 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageLength
  • 1954 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageOutDegree
  • 32 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageRevisionID
  • 15016617 (xsd:integer)
dbpedia-owl:wikiPageWikiLink
dbpedia-owl:wikiPageWikiLinkText
  • BSI CMOS
  • zpětným osvětlením
dcterms:subject
rdfs:comment
  • CMOS snímač se zpětným osvětlením, zkráceně BSI CMOS (z ang. BackSide-Illumination). Jde o technologii upravující stávající způsob výroby fotocitlivých CMOS čipů. Ve standardních CMOS čipech je totiž fotocitlivá vrstva uložena až za tranzistory a kovovými obvody. To způsobuje, že na fotocitlivou vrstvu dopadá méně světla, což zapříčinilo jejich vytlačení CCD čipy.
rdfs:label
  • BSI CMOS
prov:wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbpedia-owl:wikiPageWikiLink of
is foaf:primaryTopic of